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中科院正式發(fā)聲，國產(chǎn)高端芯片即將量產(chǎn)，已擺脫美國專利鉗制

日期：2021-07-09 16:06:18 　　點擊：

在5G、互聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的推動下，芯片所扮演“數(shù)字糧食”的角色日益凸顯，而作為5G、手機等產(chǎn)業(yè)較為領(lǐng)先的國家，我國對芯片的需求也在日益提升。在芯片領(lǐng)域，我國的芯片設(shè)計水平不在美國之下;但在制造領(lǐng)域，不得不承認這是我國長期以來被卡脖子的典型，也正是這種原因，讓中興、華為、中芯國際嘗到了“斷糧之苦”!其根本原因就是在中高端芯片領(lǐng)域沒有100%獨立自主的技術(shù)。

不過，挑戰(zhàn)也是機遇!美國對我國半導(dǎo)體企業(yè)的施壓，讓我們意識到了芯片制造技術(shù)國產(chǎn)化的重要性，同時國家為完善半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，相繼多次出臺了相關(guān)的利好政策，同時也公布了“鐵令”，要求2025年將芯片自給率提升到70%，這也讓我國迎來了一股“造芯潮”!隨著時間的推移，芯片產(chǎn)業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)也迎來了一次大跨步!

根據(jù)國內(nèi)媒體報道，中科院包云崗博士在接受采訪時突然發(fā)聲稱，我國經(jīng)過了多年的耕耘布建，當下國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)開始從高速發(fā)展階段開始向高質(zhì)量階段轉(zhuǎn)型，已經(jīng)具備了28nm、14nm等先進工藝芯片的制造技術(shù)，并且將在短期內(nèi)實現(xiàn)規(guī)模量產(chǎn)。

我們要知道，在芯片制造領(lǐng)域，28nm是一個分界點，14nm、7nm和更先進的5nm，這些工藝是主要用在PC、手機、平板這些電子數(shù)碼領(lǐng)域。而28nm、50n等更成熟工藝的芯片主要用在家用電器，汽車等領(lǐng)域，數(shù)據(jù)顯示，這些成熟工藝芯片據(jù)了半導(dǎo)體市場三分之二左右的份額。

在數(shù)碼產(chǎn)品之外，由于更先進的工藝會帶來更強的性能、更低的功耗，14nm工藝已經(jīng)成了當下應(yīng)用最廣泛，最具價值的制造工藝，不管是AI芯片、高端處理器還是在汽車、電器領(lǐng)域比較高端，同時也具有很大發(fā)展?jié)摿Α?/p>

我國此前雖然可以量產(chǎn)14nm工藝芯片，但需要ASML的DUV光刻機，美國的技術(shù)、日本材料。但是，在這些領(lǐng)域，我國在技術(shù)方面已經(jīng)擺脫了美國的專利鉗制!

半導(dǎo)體供應(yīng)鏈開始國產(chǎn)化

在光刻機領(lǐng)域，光刻機巨頭上海微電子3月份就完成了28nm精度光刻機的研發(fā)，今年年底或明年年初將會實現(xiàn)量產(chǎn)，而包云崗博士的發(fā)聲，與上海微電子光刻機的量產(chǎn)時間點較為吻合。而媒體報道，28nm精度的光刻機不僅能實現(xiàn)28nm、14nm芯片的量產(chǎn)，同時最高還可能會實現(xiàn)7nm DUV芯片的生產(chǎn)，重要的是這是我們的國產(chǎn)光刻機，完全實現(xiàn)了去美國化。

光刻材料方面，我國半導(dǎo)體材料巨頭南大光電通過多年的研發(fā)，其生產(chǎn)的高分辨率ArF光刻膠也達到了國際標準，并獲得了海外用戶的一筆訂單，可以說在光刻膠領(lǐng)域，我國也打破了美日壟斷，實現(xiàn)了自主、可控。

而14nm芯片的量產(chǎn)，這也意味著我國將可以在5G通訊、高性能計算機等方面實現(xiàn)自給自足的需求，華為的5G業(yè)務(wù)也不用在擔心被基站芯片卡脖子。不僅如此，據(jù)報道國內(nèi)已經(jīng)啟動了5nm工藝芯片制造技術(shù)的研發(fā)，希望能在2021年底打通工藝流程，進而向生產(chǎn)階段邁進。

我國在芯片制造技術(shù)方面能取得突破，其實一方面要感謝美國，嚴峻的國際形勢讓我國在芯片制造方面下定了決心;而另一方面，我們也要感謝背后默默付出的科學家。

而在芯片工藝提升的關(guān)鍵時刻，我國科研機構(gòu)、科研企業(yè)也應(yīng)該拿出像明星收入一樣的錢鼓勵這些科學家，加大對5nm芯片制造技術(shù)、第三代半導(dǎo)體的投資和研發(fā)，相信我國在半導(dǎo)體領(lǐng)域必然有一天會像航天那樣超越美國。

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