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蘋果獲得屏下Touch ID和Face ID專利：要和劉海屏說拜拜
日期：2021-07-29 10:29:55
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蘋果將為iPhone采用屏下Touch ID和Face ID的消息已經(jīng)不是第一次聽到了。最近，蘋果通過美國專利商標局獲得了一項新專利，可以用于屏下Face ID和Touch ID未來有望能看到蘋果能發(fā)布沒有劉海屏的真全面屏。
專利文檔顯示，蘋果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內(nèi)。
光學成像陣列位于屏幕后面，可定向接收通過屏幕傳來的光線，與屏幕發(fā)光的方向相反。
介紹中提到的光學成像陣列，適用于成像、感測或數(shù)據(jù)聚合等，包括但不限于環(huán)境光感測、近距、深度感應、結構光、光通信、生物特征成像(例如指紋成像、虹膜成像、面部識別等)。
這項專利意味著，屏幕可能會有一部分"通過不透明的背板定義的成像孔"，蘋果稱之為“光圈”。
為了能夠正常使用Touch ID和Face ID，這塊“光圈”區(qū)域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。
還有一種可能，就是在使用Touch ID和Face ID時，這塊“光圈”區(qū)域的像素才會降低，在不使用時，像素密度和其它區(qū)域一致。
在這份14000字的專利報告中，蘋果還提及了此專利也可用于MacBook上。
不過，蘋果已經(jīng)擁有不少屏下Touch ID和Face ID識別專利，將來會采用哪一種尚未可知。
蘋果計劃于今年9月24日發(fā)布新iPhone，依然會采用劉海屏和Face ID單生物識別方案，短期內(nèi)是看不到同時采用Touch ID和Face ID識別方案的新機發(fā)布了，不過有消息稱iPhone SE 3 Plus可能會采用電源指紋識別方案。
【來源：快科技】【作者：隨心】
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日期：2021-07-29 10:29:55
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專利文檔顯示，蘋果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內(nèi)。
光學成像陣列位于屏幕后面，可定向接收通過屏幕傳來的光線，與屏幕發(fā)光的方向相反。
介紹中提到的光學成像陣列，適用于成像、感測或數(shù)據(jù)聚合等，包括但不限于環(huán)境光感測、近距、深度感應、結構光、光通信、生物特征成像(例如指紋成像、虹膜成像、面部識別等)。
這項專利意味著，屏幕可能會有一部分"通過不透明的背板定義的成像孔"，蘋果稱之為“光圈”。
為了能夠正常使用Touch ID和Face ID，這塊“光圈”區(qū)域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。
還有一種可能，就是在使用Touch ID和Face ID時，這塊“光圈”區(qū)域的像素才會降低，在不使用時，像素密度和其它區(qū)域一致。
在這份14000字的專利報告中，蘋果還提及了此專利也可用于MacBook上。
不過，蘋果已經(jīng)擁有不少屏下Touch ID和Face ID識別專利，將來會采用哪一種尚未可知。
蘋果計劃于今年9月24日發(fā)布新iPhone，依然會采用劉海屏和Face ID單生物識別方案，短期內(nèi)是看不到同時采用Touch ID和Face ID識別方案的新機發(fā)布了，不過有消息稱iPhone SE 3 Plus可能會采用電源指紋識別方案。
【來源：快科技】【作者：隨心】
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